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Curvy Masks Ahead!
Learn how curvilinear mask shapes provide larger lithography entitlement than traditional rectilinear masks and became a viable option for IC manufacturing.
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Explore the ways your company can best use Calibre to embrace the cost-efficient manufacturing solution for curvilinear masks.
為什麼要使用曲線光罩？
IC 設計和製造以往將形狀表示為曼哈頓形狀。直線邊多邊形是一種高效利用可用空間的方式。圓形和曲線都會浪費空間，但在現實世界中，工藝角總會進行一定程度的圓化。直線邊設計在晶圓上呈現出圓形工藝角，主要是由於投影光學系統的低通性導致。由於光學/電子束刻寫機的工藝角解析度有限，直線邊設計在光罩上呈現圓形工藝角。
下一代微影製程的曝光要求促使微影製作人員探索曲線光罩的優勢。多電子束光罩刻寫機 (MBMW) 的問世，解決了和高頂點數有關的光罩刻寫執行時損失，並讓曲線 (CL) 光罩更有機會實現。
業界正全速推進，將曲線光罩工具、資料處理能力和流程化為可能。