自動對齊多重曝光軌道分解技術

一旦決定使用特定的 SAMP 製程，設計人員就必須確定最佳的 Layout 分解以產生所需的光罩，同時符合所有相關的設計規則。IMEC 與 Siemens EDA 針對產生 DRC 相容的軌道（線路）光罩，進行分解要求和技術的說明。Calibre 多重曝光工具不僅可將分解製程自動化，也能在繪製的目標形狀無法產生正確的軌道光罩時，幫助設計人員更快、更準確地除錯。