ON resistance is reduced by more than 61% (Pch) 39% (Nch)

提供傲視群倫的低導通電阻

現今的工業馬達與基地台應用通常採用 24V 輸入電壓。這些應用中使用的 MOSFET 必須 能承受 40V 至 60V 的電壓波動。此外，現 今市場期望 MOSFET 能加快切換速度和降 低導通電阻，使馬達更有效率且更微型化。 在此背景下，ROHM 利用最新的設計方法論 和製程技術開發出一流的 dual MOSFET， 即 ROHM 的 QH8Mx5/SH8Mx5 系列。 該系列與競爭業者的 ±40V 產品相比， P 通道和 N 通道 MOSFET 的導通電阻分 別降低了 61% 和 39%。ROHM 公司利 用 Siemens Tanner™ L-Edit 設計此元件的 Layout。

L-Edit 提供克服設計挑戰的設計環境

任職元件開發部功率元件業務單位的 Yutani 先生表示：「設計師每天都要面臨許多挑 戰，比如減少功耗、尺寸和重量、改善耐熱性和加快產品的上市速度等」。「現在， 我們將測試元件組 (TEG) 自動化，藉此縮 短開發階段的周轉時間。我們使用 TEG Layout，為流程及個別元件產生最佳的評 估和控制模式。」

在功率元件的結構化設計中，尺寸和間距 是由元件模擬作業決定；之後，為了選 出最佳結構，ROHM 建立了數百個 TEG Layout 模式。經由試錯流程選出最佳的結 構 Layout。Yutani 說：「我們目前正在 執行測試作業，測試以 TCL 語言自動執行 Layout，其中結合了設計師本身累積的知 識。」「藉由這項流程，我們預計自動化 作業完成後，TEG Layout 設計時間將縮 80%。測試作業完成後，我們會依次將此 自動化擴展到其他結構，進一步改善 TAT 流程，並推動公司內部實現基於 TCL 指令 碼的最佳化和效率提升。」

「Tanner L-Edit 軟體支援包括 C/C++、 TCL 和 Python 在內的多種語言，還能選擇 要在參數單元中還是命令行上執行這些語 言。因此，在確定程式內容之前，可以使 用 Excel 計算座標、使用 TCL 命令將座標 轉換成 ASCII 檔案，並在命令行上執行。一 旦程式的內容普遍適用，就可以建立一個 參數化單元，並確定將哪些參數值保留在 Layout 單元上。這樣便能為設計選擇最有 效的部署方法」，任職元件開發部功率元 件業務單位的 Sanda 先生表示。

此外，Tanner L-Edit 同時支援 Windows 和 Linux。這種靈活性減輕了管理設計環境的 負擔。

TCL 程式碼中的參數單元、 相 應 的 參 數 以 及 產 生 的 Layout 範例。使用 TCL 描述 圖層並產生參數化圖層以提 高 Layout 效率。

Layout 驗證也是一種新方法

Yutani 表示：「對 Layout 進行 DRC 驗 證是確保設計和產品品質的必要之舉， 但就電源離散元件產品而言，存在各式 各樣的流程。」「為每個流程建立規則 檔案和套用正確的規則實在太過複雜， 需要投入巨大的工作量來防止出錯，而且 光是確認是否使用正確的規則集就可能非 常麻煩。」 Yutani 表示：「為了強化這個驗證流程， 我們改變了思維方式，在 DRC 流程中引入 了不同的方法。」「在產品 Layout 中，基 本結構的單元和零件會根據規則定期實例 化，因此，我們決定轉而偵測融入基本結 構化零件的 DRC 圖形的重疊和分離，而不 是透過指定最小值來偵測尺寸。因此，再 也不必準備傳統的規則檔案來描述每種流 程和產品的最小值，現在所有流程和產品 都能統一套用規則。

很慶幸我們的產品並未因未被偵測到的 DRC 違規而延遲上市，不過我們在建立、 運行、驗證和確認規則上確實投入了相當 多時間來防範此情況的發生。由於流程很 簡單，DRC 驗證的執行時間很短、工作 量和驗證時間大幅縮減，可靠性也獲得保 障。我們改變 DRC 方法後，Layout 的驗證 效率獲得顯著提高。這為我們大大簡化了 規則的準備與規範工作。」

Tanner L-Edit 不僅以 ASCII 檔案管理圖層和 技術等資訊，還將這些資訊當作一個資料 庫，連同 Layout 資料一起管理，因此很容 易管理設計師所能存取的資料，您可以建 立一個彈性的環境，以便在萌生新想法時 試驗是否可行。

不再以尺寸偵測 DRC 而改為以重 疊的 DRC 圖層來偵測之範例。在 每個零件中輪流增加「DRC1」和 「DRC2」方塊，偵測出實例化零件 之間的重疊和/或空間。

Siemens EDA 從使用者角度提供的支援服 務令 ROHM 很滿意

Yutani 表示：「我們對 Siemens EDA 的支 援服務非常滿意。「Siemens EDA 適當針 對使用情況進行訪談，並從使用者的角度 提供支援，例如舉辦研討會。根據這些經 驗，我們確信即使出現任何問題，只要諮 詢 Siemens EDA 就能獲得最棒的支援。此 外，假如有技術上的疑問，也能向支援中 心登記並與小組成員分享，從而實現高效 的資訊共享。我們打算繼續使用 Tanner 工 具打造更有效率的設計環境，因此我們期 望 Siemens EDA 作為我們的優秀合作夥 伴，繼續提供優質的支援和產品。」