视频
Curvy Masks Ahead!
Learn how curvilinear mask shapes provide larger lithography entitlement than traditional rectilinear masks and became a viable option for IC manufacturing.
预估观看时长：32 分钟
为什么选择曲线掩膜？
IC 设计和制造历来将形状表示为曼哈顿形状。直线边多边形是一种高效利用可用空间的方式。圆形和曲线都会浪费空间，但在现实世界中，工艺角总会进行一定程度的圆化。直线边设计之所以会在晶圆上呈现圆化工艺角，主要是投影光学系统的低通性质所致。由于光学/电子束写入机的工艺角分辨率是有限的，直线边设计会在掩膜上呈现圆化工艺角。
下一代光刻工艺的曝光要求促使光刻人员探索曲线掩膜的优势。多光束掩膜写入机 (MBMW) 的问世解决了与高顶点数相关的掩膜写入运行时间损失，并使曲线 (CL) 掩膜的引入更接近于现实。
行业正在全速挺进，寻求全面支持 CL 掩膜工具、数据处理和流程。