미세공정을 위한 더블 패터닝 오류 해결의 시각화

IC 설계 물리적 검증에서의 복잡한 더블 패터닝 오류를 해결하기 위해서는 혁신적인 디버깅 기술이 필요합니다.

집적 회로(IC) 설계에서 더블 패터닝(DP)에 대한 요구 사항이 새로운 공정 기술 노드마다 더 복잡해짐에 따라 DP 오류도 더 복잡해지고 있습니다. 뿐만 아니라 많은 DP 오류는 보다 복잡한 2차적인 DP 오류들을 발생시킬 수 있습니다. 이러한 모든 DP 오류를 디버깅하는 것은 매우 비효율적이며, 불필요한 설계자의 시간이 소모됩니다. Calibre Multi-Patterning 도구는 복잡한 오류를 지능적으로 걸러 내고, 이러한 오류의 특정하고 더욱 집중된 범주로 분할합니다. 이러한 필터링을 통해 설계자는 특정 문제의 근본 원인에 집중할 수 있으며, 이러한 근본 원인이 해결되면 부작용으로 발생하는 모든 관련 오류를 제거할 수 있습니다. 향상된 시각화와 이러한 확장된 필터링을 통해 설계 팀은 DP 구성의 모두에서 오류 디버그 효율성을 개선할 수 있습니다. 이러한 새로운 탐지 및 시각화 알고리즘을 통해 Calibre Multi-Patterning 도구 세트는 미세 공정에서의 DP 검증에 필요한 높은 복잡성을 충족할 수 있도록 발전하였습니다.