자가정렬 멀티 패터닝 트랙 분해 기법

특정 SAMP 프로세스를 사용하기로 결정한 후 설계자는 모든 관련 설계 규칙을 준수하면서 필요한 마스크를 생성할 수 있는 최적의 레이아웃 분해를 결정해야 합니다. IMEC와 Mentor는 DRC 호환 트랙(라인) 마스크를 생성하기 위한 분해 요구 사항 및 기법을 설명합니다. Calibre 멀티 패터닝 툴은 분해 프로세스를 자동화할 뿐만 아니라 그려진 대상 형태에서 적절한 트랙 마스크 생성이 불가능할 때 설계자가 오류를 더 빠르고 정확하게 디버깅할 수 있도록 도와줍니다.