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5nm 이하의 멀티 패터닝 옵션: SADP, SAQP, SALELE

자가정렬 멀티 패터닝은 5nm 이하에 필수적인 공정으로 자리 잡았습니다.

전통적인 LEⁿ(litho-etch) 공정에서 가장 주된 우려 사항은 바로 정렬 제어입니다. 이러한 정렬 제어 문제로 인해 자가정렬 멀티 패터닝은 사용되는 리소그래피 기술과 관계없이 대부분의 첨단 노드에 필수적인 공정으로 자리 잡았습니다. SADP, SAQP, SALELE 공정의 자세한 단계별 설명과 그림을 통해 이러한 레이아웃이 제조 단계에서 어떻게 만들어지는지 설명합니다.

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